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所有關(guān)于分型，筆和線段的敘述如下：

分型：

頂分型--從最高K線左（右）側(cè)開始，包含處理后的新K線左（右）側(cè)那根不再是包含關(guān)系的K線跌破新K線低點(diǎn)，則左（右）側(cè)分型成立，左右側(cè)分型都成立，則頂分型成立。

底分型同理

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筆成立的三個(gè)條件：

1. 頂分型和底分型經(jīng)過(guò)包含處理后不允許共用K線

2.不考慮包含關(guān)系，頂分型最高K線和底分型最低K線(不包括這兩K線)之間有3根或者三根以上K線

3. 頂分型區(qū)域和底分型區(qū)域有不重疊的部分，且頂高于底.

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線段：

第一種破壞(無(wú)缺口)-----向上線段在最高點(diǎn)結(jié)束的充要條件:

1. 從該高點(diǎn)向下的一筆與該線段特征序列最后1個(gè)元素有重合區(qū)間

2. 從該高點(diǎn)向下的一筆在后續(xù)筆未升破該高點(diǎn)前，跌破此筆的低點(diǎn)

第二種破壞(有缺口)-----向上線段在最高點(diǎn)結(jié)束的充要條件:

1. 從該高點(diǎn)向下的一筆與該線段特征序列最后1個(gè)元素?zé)o重合區(qū)間

2. 從該高點(diǎn)向下的一筆開始的特征序列出現(xiàn)底分型，且底分型的最低K線區(qū)間低于該高點(diǎn).

向下線段同理

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缺口處理

缺口就是0，可以0=0+0+0(線段)，也可以0=0(筆)

缺口處理為向上筆的充要條件：缺口本來(lái)就處于低點(diǎn)上去的向上筆中

缺口處理為向上段的充要條件：缺口前面是向下筆，且后面直接上去的大缺口升破最近一個(gè)中樞區(qū)間的高點(diǎn)ZG

缺口為向下筆或段同理