80%以上的新手都會(huì)陷入這個(gè)修圖誤區(qū)，以為修圖只是修圖片的整體即可，整體影調(diào)、氛圍的控制雖然也重要，但針對(duì)局部畫面的控制才是提升作品質(zhì)感的關(guān)鍵支點(diǎn)，兩者之間整體服務(wù)于氛圍的營造，局部服務(wù)于畫面的細(xì)節(jié)，兩者互補(bǔ)。

風(fēng)光修圖的正確思路在于先定整體影調(diào)，再控制局部細(xì)節(jié)。一般而言，風(fēng)景類的作品修圖可以參考以下思路：一、確定整體曝光；二、確定畫面影調(diào)；三、整體及局部調(diào)色；四、銳化渲染。其中影調(diào)的作用尤其關(guān)鍵。

在前期拍攝過程中，受各種因素影響光影非常大概率會(huì)畫面平淡，毫無特色。這時(shí)候就需要依靠后期的手法人為修飾光影。通過提升或減弱高光、陰影部分來達(dá)到控制畫面光影的目的，如下圖我畫了兩個(gè)一模一樣的橢圓形，對(duì)第二個(gè)添加了陰影部分，有了高光與陰影的配合，所以立體感會(huì)相對(duì)強(qiáng)烈。在風(fēng)光作品中同理，如修飾山脈或草原時(shí)，提亮畫面主體即可輕松獲得這種質(zhì)感。操作手法如下。

1、 入門之選：加深減淡易上手

相對(duì)其他復(fù)雜的工具，這是我認(rèn)為最簡單的光影控制工具了。

（1）按Ctrl+J復(fù)制圖層后，切換至左側(cè)的加深或減淡工具。

（2）切換完畢后畫面上側(cè)控制菜單（如圖中紅圈所示）上會(huì)出現(xiàn)：畫筆大小、范圍、曝光度三個(gè)主要控制參數(shù)，具體需要根據(jù)畫面情況隨時(shí)變換設(shè)置。

畫筆，建議設(shè)置為圓形，硬度設(shè)置為0，如此設(shè)置是為了讓畫筆的邊緣過渡更加自然，不會(huì)出現(xiàn)突然的斷層。此設(shè)定已經(jīng)成為風(fēng)光后期屆不成文的硬規(guī)定，這兩項(xiàng)設(shè)置后幾乎不需要二次更改。但需注意的是畫筆大小需根據(jù)涂抹范圍進(jìn)行即時(shí)調(diào)整，設(shè)置方法為‘[’ ‘]’（注意將輸入法切換為英文）。

范圍，可選擇的范圍為高光、中間調(diào)、陰影，核心功能是控制工具的作用范圍。比如說我需要將暗部調(diào)亮，將范圍設(shè)置為陰影時(shí)可以只針對(duì)陰影部分生效，不會(huì)影響高光或中間調(diào)部分。

曝光度，此選項(xiàng)設(shè)置比較簡單，具體情況需根據(jù)畫面大小設(shè)定。一般新手建議設(shè)定的值在20%，效果過于強(qiáng)烈可以降低，當(dāng)你擦除多次效果仍然不明顯時(shí)，再針對(duì)情況適當(dāng)提高即可。

保護(hù)色調(diào)，此選項(xiàng)一般默認(rèn)勾選。調(diào)整曝光時(shí)，畫面的顏色也會(huì)受到影響，勾選后可以很好地保護(hù)色調(diào)，調(diào)整時(shí)只針對(duì)明度調(diào)整。

2、 進(jìn)階之路：蒙版底下現(xiàn)真章

在嚴(yán)肅風(fēng)光攝影創(chuàng)作中，有一種比加深減淡更加好用，效果更可控的工具——蒙版。其效用包羅萬象，可將至用于色彩、光影、特效等方面的效果。蒙版的核心在于控制全局或局部圖層的不透明度，讓該圖層需要的地方顯示出來與下方圖層拼合，不希望顯示的地方擦除掉使其不顯示。而這個(gè)圖層可以是顏色圖層，也可以是曝光圖層，也可以是任何一個(gè)圖層。而畫筆則賦予了蒙版控制局部的能力，可以隨意更改想顯示的圖層。

因本文著重于對(duì)光影的塑造，故以使用曲線工具調(diào)整畫面的高光部分為演示，其他工具用法大致相同，暫不累述。

（1）按Ctrl+J復(fù)制圖層后，使用Ctrl+M快捷鍵（或點(diǎn)擊PS上方菜單欄的[圖像]—[調(diào)整]—[曲線]）調(diào)取曲線工具。

（2）在曲線調(diào)整至合適曝光之后，點(diǎn)擊PS屏幕右下角創(chuàng)建蒙版按鈕（位置如圖示）。新建蒙版后該圖層會(huì)多出一個(gè)白色的框，按下CTRL+i對(duì)蒙版圖層進(jìn)行反相，這時(shí)候在左側(cè)工具欄切換至畫筆工具，對(duì)需調(diào)節(jié)畫面進(jìn)行涂抹即可。

需要關(guān)注的是上側(cè)工具欄的畫筆設(shè)置、模式、不透明度、流量四個(gè)常用工具。其中畫筆設(shè)置與加深減淡的工具一樣，不透明度、流量其實(shí)與加深減淡中的曝光度為同一原理，效果一致，分歧在于將曝光度拆分為兩個(gè)不同的工具控制。模式一般設(shè)置為正常即可，極少更改。