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(1)化學(xué)拋光與機(jī)械研磨拋光有本質(zhì)上的不同。

化學(xué)拋光是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部優(yōu)先溶解，改善金屬表面粗糙度，獲得平滑光亮表面的過程。

機(jī)械研磨拋光是將被研磨面的凸部用切削，磨耗或者塑性變形等方式除去，獲得平滑光亮表面的過程。

兩種拋光方式對金屬表面有不同的影響，金屬表面的許多性質(zhì)被改變，所以化學(xué)拋光與機(jī)械拋光有本質(zhì)上的不同。

由于機(jī)械拋光的局限性，使不銹鋼等金屬工件不能發(fā)揮其應(yīng)有的功能。對這些問題難于解決，自從出現(xiàn)了不銹鋼電解拋光技術(shù)，一定程度上解決了機(jī)械拋光難于解決的問題，優(yōu)勢明顯。但是，電解拋光仍有許多缺點(diǎn)。

（2）化學(xué)拋光與電解拋光的比較

化學(xué)拋光：將金屬浸漬在各種成分組成的特殊化學(xué)溶液中，靠化學(xué)能量自然溶解金屬表面，獲得平滑光亮的表面。

電解拋光是將金屬浸漬在各種成分組成的特殊化學(xué)溶液中，靠電流能量陽極溶解金屬表面，獲得平滑光亮的表面。

化學(xué)拋光僅僅是浸漬作業(yè)，操作簡單。而電解研磨拋光需要大容量直流電，還要合理設(shè)置電流對極，精確控制電流電壓，操作工藝復(fù)雜，質(zhì)量控制困難，有些特殊工件還不能處理。